京都国际会议中心，发布厅内，死寂一片。
所有人的目光，都凝固在主席台那块巨大的LEd屏幕上。屏幕中央，那个布满了复杂苯环和化学键的分子结构式，以及那行醒目的大字——【神迹（miracle）-1号——次世代金属氧化物EUV光刻胶】，正无声地宣告着一场即将到来的科技海啸。
“不可能！”一个来自《华尔街日报》的科技记者，终于打破了沉默，他的声音带着一丝难以置信的颤抖，几乎是吼出来的。他身旁，来自路透社、美联社的同行们，也纷纷从座位上弹起，脸上写满了震惊、骇然，以及一种深深的恐惧。
他们都是半导体行业的资深记者，深知EUV光刻胶对芯片制造的重要*。这玩意儿，是真正卡住全球半导体产业脖子的“咽喉”技术。分辨率、灵敏度、蚀刻选择*，这三个参数，每一个都足以决定一款光刻胶的生死，更何况是EUV级别的。
屏
请关闭浏览器的畅读模式或者取消屏蔽JavaScript的正常运行，避免出现内容显示不全或者段落错乱。
原网页地址：https://m.e3xsw.net/book/463575/1469431.html
本章未完，点击下一页继续阅读。